TWOJA PRZEGLĄDARKA JEST NIEAKTUALNA.

Wykryliśmy, że używasz nieaktualnej przeglądarki, przez co nasz serwis może dla Ciebie działać niepoprawnie. Zalecamy aktualizację lub przejście na inną przeglądarkę.

 

Katedra Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii K38W05D02

Laboratorium Elektrotechnologii

Kierownik Laboratorium: dr inż. Tomasz Czapka

Zakres działalności:

Laboratorium zajmuje się:

  1. otrzymywaniem cienkich warstw z wykorzystaniem technologii próżniowych (parowanie oporowe, rozpylanie magnetronowe)
  2. osadzaniem na powierzchni podłoża warstw nadprzewodzących, przewodzących, półprzewodzących, dielektrycznych oraz materiałów wysokotopliwych
  3. nanoszeniem warstw węglowych z fazy gazowej

Stanowiska badawcze/aparatura:

  • wyrzutnie magnetronowe WMK-100
  • impulsowe źródło prądowe o mocy 12 kW i regulowaną częstotliwością grupową od 5 Hz do 5 kHz
  • impulsowe źródło prądowe o mocy 6 kW i częstotliwości grupowej 2 kHz
  • stałoprądowe źródło o mocy 16 kW
  • impulsowe źródło prądowe o mocy 300 W i częstotliwości 27 MHz

Oferta badawcza:

  • pomiary właściwości elektrycznych cienkich warstw
  • osadzanie warstw o różnych właściwościach, tzn. zabezpieczających, ochronnych, dielektrycznych
  • nanoszenie cienkich warstw do zastosowań w elektronice, elektrotechnice, optoelektronice i fotowoltaice

Dane adresowe:
Politechnika Wrocławska
Katedra Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii K38W05D02
Wyb. Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław
tel. 071 320 28 59


Politechnika Wrocławska © 2024

INFORMACJA DOTYCZĄCA PLIKÓW COOKIES

Informujemy, iż w celu optymalizacji treści dostępnych w naszym serwisie, dostosowania ich do Państwa indywidualnych potrzeb korzystamy z informacji zapisanych za pomocą plików cookies na urządzeniach końcowych użytkowników. Pliki cookies użytkownik może kontrolować za pomocą ustawień swojej przeglądarki internetowej. Dalsze korzystanie z naszego serwisu internetowego, bez zmiany ustawień przeglądarki internetowej oznacza, iż użytkownik akceptuje stosowanie plików cookies. Czytaj więcej Polityka Prywatności Politechniki Wrocławskiej

Akceptuję